东莞金研精密研磨机械制造有限公司

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精密CMP抛光机
精密CMP抛光机

CMP单面抛光机

产品特点

  • 废水废液自动切换排放系统
  • 自动恒温监控系统

应用范围

  • 半导体材料：Si、Ge、GaAs、蓝宝石、SiC、InP、GaN、MEMS、陶瓷基板等
  • 精密光学：光学晶体、光学镜头、玻璃基板、ITO玻璃、蓝宝石玻璃、滤波材料等;
  • 晶体材料：铌酸锂、钽酸锂、YAG、石英、红外材料等。

KD360S4

KD50QS4

磨盘尺寸(mm)

ø910

工件盘外径(mm)

ø360

磨盘转速(r.p.m)

5-90

主电机功率(kw)

15

气压(MPa)

0.6

总功率(KWV1380V)

约20

毛重(kg)

3650

外形尺寸(W*D*H)mm

1360*1330*2650

磨盘尺寸(mm)

ø1270

工件盘外径(mm)

ø485

磨盘转速(r.p.m)

5-65

主电机功率(kw)

30

气压(MPa)

0.6

总功率(KWV1380V)

约38

毛重(kg)

7500

外形尺寸(W*D*H)mm

1900*2600*2750
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