东莞金研精密研磨机械制造有限公司

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精密CMP抛光机
精密CMP抛光机

CMP双面抛光机

 产品特点：

  • 气囊式加压方式。
  • 研磨&抛光盘恒温控制系统。
  • 防腐蚀性能。
  • 外齿圈旋转。

KS700YP

KS1200YP

磨盘尺寸(mm)上磨盘

ø700xø300xø50

磨盘尺寸(mm)下磨盘

ø700xø300xø50

制程

双面化学抛光

游星轮参数

Z=47 D=ø240

游星轮数量

6

最大加工直径(mm)

200

磨盘转速(r.p.m)

150

气压(MPa)

0.7-0.8

总功率(kw/380V)

22

毛量(kg)

约3400

外形尺寸(W*D*H)mm 

2160*1880*2400

 

磨盘尺寸(mm)上磨盘

ø1220xø552xø50

磨盘尺寸(mm)下磨盘

ø1220xø552xø50

制程

双面化学抛光

游星轮参数

Z=47 D=ø365

游星轮数量

6

最大加工直径(mm)

334

磨盘转速(r.p.m)

56

气压(MPa)

0.7-0.8

总功率(kw/380V)

41

毛量(kg)

约7000

外形尺寸(W*D*H)mm 

2970*2540*2735

 

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