设备原理: 本研磨机为双面精密研磨抛光设备,被磨、抛工件放于下研磨盘上,上下研磨盘相对或同向转动,工件由中心齿轮转动载体使工件自转或公转,通过气缸对上磨盘施压,工件与研磨盘作相对运动均匀磨擦,来达到对工件的研磨抛光目的。