EN
首 页
产品中心
产品中心
单平面研磨/抛光机
双平面研磨机/抛光机
高精度减薄机
双端面研磨机
半导体CMP抛光机
耗材
解决方案
新闻中心
新闻中心
公司动态
媒体报道
参展信息
关于公司
关于公司
公司介绍
联系我们
留言板
服务中心
服务中心
常见问答
视频专区
服务协议
PRODUCT CENTER / 产品中心
产品中心
单平面研磨/抛光机
双平面研磨机/抛光机
高精度减薄机
双端面研磨机
半导体CMP抛光机
耗材
B系列 单面研磨机-KD15BX
可对应高精度少量的研磨加工
描述
参数
选配
样品
设备原理
:
本研磨机为单面精密研磨抛光设备,被磨、抛工件放于研磨盘上,研磨盘逆时钟转动,通过摩擦力使工件自转,工件与研磨盘作相对运转磨擦,来达到对工件的研磨抛光目的。